1 機械拋光

　　機（jī）械拋（pāo）光（guāng）是靠切削、材料表麵塑（sù）性變形去（qù）掉被拋光後的（de）凸部而得到平滑麵的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如回轉體表麵，可使用轉台等輔助工具，表麵質量（liàng） 要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特製（zhì）的磨具，在含有（yǒu）磨料的研拋液中，緊壓在工件被加（jiā）工表麵上，作高速旋轉運動（dòng）。利用（yòng）該技術可以達到 Ra0.008 μ m 的表麵粗糙度（dù），是（shì）各種拋光方（fāng）法中最高的。光學鏡片模具常采用這種方法。

　　2 化學拋（pāo）光

　　化學（xué）拋光是讓材（cái）料在（zài）化學介質中表麵微觀凸出的部分較凹（āo）部（bù）分優先溶解，從而得到平滑麵（miàn）。這種方法的主（zhǔ）要優點是不需複雜（zá）設備，可（kě）以（yǐ）拋光形狀複雜的工件，可以同時拋光很多工件，效率高。化學拋光的核心問題是（shì）拋光液的配（pèi）製。化學拋光得到的表麵粗糙度一般為數 10 μ m 。

　　3 電解拋光

　　電解拋光基本原理與化學拋光（guāng）相（xiàng）同，即靠（kào）選（xuǎn）擇（zé）性的溶解材料表麵微小（xiǎo）凸出部分，使表麵光滑。與化學拋光相比，可以消除（chú）陰極反應的影響，效果較好（hǎo）。電化學拋光過程分為兩步：

　　（ 1 ）宏觀（guān）整平（píng） 溶解產物向電解液中擴散，材料表麵幾（jǐ）何粗糙下降， Ra ＞ 1 μ m 。

　　（ 2 ）微光平整 陽極極化，表麵光亮度提高， Ra ＜ 1 μ m 。

　　4 超聲（shēng）波拋光

　　將工件放入磨料懸浮液中並一起置於超聲波場中，依靠超聲波（bō）的振蕩作（zuò）用，使磨料在（zài）工件表麵磨削拋（pāo）光。超聲波加工宏觀力小，不會引起（qǐ）工件變形，但（dàn）工裝製作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學或電化學方法結合。在溶液腐蝕、電解的（de）基礎上，再施加超（chāo）聲（shēng）波振動攪拌溶液，使工件表麵溶（róng）解產物（wù）脫離，表麵附近的腐（fǔ）蝕或電解質均勻；超聲波在液體中的空化（huà）作用還能（néng）夠抑製腐蝕過程，利於表麵光亮化。

　　5 流體拋光

　　流體拋光是依靠高速（sù）流動的液體（tǐ）及其攜帶的磨粒衝刷工件表麵達到拋（pāo）光的目的。常用（yòng）方法有：磨料噴射加工、液體噴射（shè）加工（gōng）、流體動力研磨等。流（liú）體（tǐ）動力研磨是由液壓驅動，使攜帶磨粒的液體介（jiè）質高速往複流過工（gōng）件表（biǎo）麵。介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化（huà）合物（聚合物狀物質）並摻上磨料（liào）製成，磨料可采用碳（tàn）化矽粉末。

　　6 磁研磨拋光

　　磁（cí）研磨拋光機是利用磁性（xìng）磨料在磁場作（zuò）用（yòng）下形成磨料刷（shuā），對工件磨削（xuē）加工。這種方法加工效（xiào）率高，質量好，加（jiā）工條件容（róng）易控製（zhì），工作條件好。采用合適的（de）磨料，表麵粗糙度（dù）可以達到 Ra0.1 μ m 。

　　在塑料模具加工中所說的拋光與其他行業中所要求的表麵拋光有很大的不同，嚴格來說，模具的拋光應該稱為鏡麵加工。它不僅對拋光本身有很高的要求並且對表麵平整度、光滑度以及（jí）幾何精確（què）度也有很高的標準。表麵（miàn）拋光一般（bān）隻要求獲得光（guāng）亮的表麵（miàn）即可。鏡麵加工的（de）標準分為四級： AO=Ra0.008 μ m ， A1=Ra0.016 μ m ， A3=Ra0.032 μ m ， A4=Ra0.063 μ m ，由於（yú）電解拋光、流體拋光等方法很難精確（què）控製零（líng）件的幾何精確（què）度，而化學拋光、超聲波拋光、磁研磨拋光等方法的表麵質量又達不到要求，所以精密模具的鏡麵加（jiā）工（gōng）還是（shì）以機械拋（pāo）光為主。